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电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布 | |
李帅辉; 舒勇华; 樊菁 | |
Source Publication | 中国科学. E辑, 技术科学 |
2008-07-15 | |
Volume | 38Issue:7Pages:1105-1117 |
ISSN | 1006-9275 |
Abstract | 大面积薄膜的组分和厚度分布是实际工艺中最为关心的问题之一.利用实验和直接模拟Monte Carlo(DSMC)方法,分别研究了双电子束和三电子束物理气相沉积(EBPVD)中,钇和钛蒸气原子的三维低密度、非平衡射流,获得了它们在100和150mm单晶硅基片表面的沉积厚度和组分的分布.DSMC结果与钇和钛的蒸发速率的石英晶振探头原位测量值,沉积薄膜厚度分布的台阶仪和Rutherford背散射仪的测量数据,沉积薄膜组分分布的Rutherford背散射仪和电感耦合等离子体原子发射光谱仪测量值,均相符甚好.这表明通过DSMC方法与精细测量相结合,可在原子水平上实现EBPVD输运工艺的定量预测和设计。 |
Keyword | 电子束物理气相沉积 薄膜 厚度和组分分布 蒸气原子 非平衡输运 |
Indexed By | CSCD |
Language | 中文 |
CSCD ID | CSCD:3388860 |
Citation statistics | |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/40344 |
Collection | 力学所知识产出(1956-2008) |
Corresponding Author | 李帅辉 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 李帅辉,舒勇华,樊菁. 电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布[J]. 中国科学. E辑, 技术科学,2008,38,7,:1105-1117. |
APA | 李帅辉,舒勇华,&樊菁.(2008).电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布.中国科学. E辑, 技术科学,38(7),1105-1117. |
MLA | 李帅辉,et al."电子束物理气相沉积钇钛合金薄膜的组分和厚度分布".中国科学. E辑, 技术科学 38.7(2008):1105-1117. |
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