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Mn注入n型Ge单晶的特性研究 | |
刘力锋; 陈诺夫; 尹志岗; 杨霏; 周剑平; 张富强 | |
Source Publication | 功能材料与器件学报 |
2005-03-25 | |
Volume | 11Issue:1Pages:15-18 |
Abstract | 采用离子能量为100keV,剂量为3×1016cm-2的离子注入技术,室温下往n型Ge(111)单晶衬底注入Mn+离子,注入后的样品进行400℃热处理。利用X-射线衍射法(XRD)和原子力显微镜(AFM)对注入后的样品进行了结构和形貌分析,俄歇电子能谱法(AES)进行了组分分析,交变梯度样品磁强计(AGM)进行了室温磁性测量。结果表明原位注入样品的结构是非晶的,热处理后发生晶化现象。没有在样品中观察到新相形成。Mn离子较深的注入进Ge衬底,在120nm处Mn原子百分比浓度达到最高为8%。热处理后的样品表现出了室温铁磁特性。 |
Keyword | 离子注入 锗 铁磁性 稀磁半导体 |
Language | 中文 |
Funding Organization | 国家自然科学基金G60176001及G60390072 |
Document Type | 期刊论文 |
Identifier | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/41690 |
Collection | 力学所知识产出(1956-2008) |
Corresponding Author | 刘力锋 |
Recommended Citation GB/T 7714 | 刘力锋,陈诺夫,尹志岗,等. Mn注入n型Ge单晶的特性研究[J]. 功能材料与器件学报,2005,11,1,:15-18. |
APA | 刘力锋,陈诺夫,尹志岗,杨霏,周剑平,&张富强.(2005).Mn注入n型Ge单晶的特性研究.功能材料与器件学报,11(1),15-18. |
MLA | 刘力锋,et al."Mn注入n型Ge单晶的特性研究".功能材料与器件学报 11.1(2005):15-18. |
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