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| 等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究 | |
黄河激 ; 付志强; 潘文霞; 吴承康
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| Source Publication | 第三届高超声速科技学术会议.无锡.2010-10-26~2010-10-28. |
| 2011-01-12 | |
| Conference Name | 第三届高超声速科技学术会议 |
| Conference Date | 2010-10-26~2010-10-28 |
| Conference Place | 无锡 |
| Abstract | 利用减压等离子体活性烧结制备了碳化硅涂层。研究了不同等离子体气流流量、真空室压力、电源功率、基板距离等工艺参数组合对涂层质量的影响规律。通过正交实验确定了优化工艺参数组合，在Φ50 mm以及50×50 mm的较大石墨基板上获得了厚度和成分均匀，结合良好的SiC涂层。沉积速率高达20 μm/min。利用小型电弧等离子体风洞对制备的涂层进行了烧蚀实验，结果表明所制备的涂层在有氧高温高速气流环境下无剥落，可有效保护基体石墨。 |
| Keyword | 减压等离子体活性烧结 碳化硅涂层 高速沉积 |
| Department | LHD应用等离子体力学(CPCR) |
| Indexed By | 其他 |
| Language | 中文 |
| Document Type | 会议论文 |
| Identifier | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/43296 |
| Collection | 等离子体与燃烧中心(2009-2011) |
| Corresponding Author | 黄河激 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 黄河激,付志强,潘文霞,等. 等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究[C]第三届高超声速科技学术会议.无锡.2010-10-26~2010-10-28.,2011. |
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| 等离子体活性烧结纳米碳化硅涂层的实验研究（549KB） | 开放获取 | License | View Download | |||
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