| 磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价 | |
| Alternative Title | Quantitative evaluation for magnetic field distribution of magnetron sputtering target |
高方圆 ; 李光; 夏原
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| Source Publication | 材料热处理学报
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| 2010 | |
| Volume | 31Issue:12Pages:153-157 |
| ISSN | 1009-6264 |
| Abstract | 针对磁控溅射阴极靶磁场分布难以进行定量评价的问题,提出以磁场水平分量Bx的平行率Rk为量化指标,对磁场分布状态进行评价的新方法;采用有限元方法,模拟分析了磁控溅射阴极靶结构参数对磁场分布的影响规律,并利用Rk对结构参数的合理性进行了验证.结果表明,量化指标Rk可以有效地评价磁场分布的优劣,能够为磁场模拟及分析提供基础的科学判据 |
| Keyword | 磁控溅射 磁场分布 结构参数 平行率 |
| URL | 查看原文 |
| Indexed By | EI ; CSCD |
| Language | 中文 |
| Funding Organization | 国家自然科学基金(10772179) |
| CSCD ID | CSCD:4086205 |
| Citation statistics |
Cited Times:1[CSCD]
[CSCD Record]
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| Document Type | 期刊论文 |
| Identifier | http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/44006 |
| Collection | 先进制造工艺力学实验室 |
| Corresponding Author | 高方圆 |
| Recommended Citation GB/T 7714 | 高方圆,李光,夏原. 磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价[J]. 材料热处理学报,2010,31,12,:153-157. |
| APA | 高方圆,李光,&夏原.(2010).磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价.材料热处理学报,31(12),153-157. |
| MLA | 高方圆,et al."磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价".材料热处理学报 31.12(2010):153-157. |
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